Forschungsschwerpunkte

Am Fraunhofer IZM sind galvanische und außenstromlose Abscheidungstechnologien für diverse Metalle (Ag, Au, Pt, Cu, Ni und Legierungen, Sn und Legierungen) verfügbar.
Es werden Abscheidungstechnologien und/oder Elektrolyte zur Verbesserung von Schichteigenschaften und Erschließung neuer Anwendungen in Packaging, Sensorik und weiteren Feldern entwickelt.

Unter Mikrogalvanik werden am IZM sind Entwicklungen elektrochemischer Verfahren, die zu Mikro-Nano-strukturierten Oberflächen mit definierten 3d-Oberflächenprofilen mit stark vergrößerter Oberfläche führen, verstanden.
Derzeit sind am IZM zwei Technologien verfügbar.

Mit der Templattechnologie werden normalerweise metallische Nanodraht- oder Nanorasenstrukturen mit Drahtdurchmessern von 50 bis 5000 nm und Aspektverhältnissen bis 100 erzeugt. Unsere Nanorasentechnologie basiert auf vorstrukturierten Polycarbonat-Templatfolien von bis zu 20 µm Stärke.

Die neu entwickelte G-Plating-Technologie erlaubt im Gegensatz zur Templatfolientechnik Direktgalvanik auf den Padstrukturen. Das Kristallwachstum erfolgt vorzugsweise aufrecht und die Spitzendurchmesser betragen nur wenige Nanometer.

Diese Technologie erfordert besonderes Equipment sowie angepasste Elektrolyte. Derzeit sind am IZM Au- und AG-Abscheidungssysteme verfügbar.

Diese Schichten sind für Chip/Chip-Niedrigtemperaturpreßschweißen unter Ausbildung ultraflacher monometallischer Verbindungen geeignet.

Sie sind sehr gut verwendbar als elektrochemische Sensoren mit deutlich erhöhtem Signal-Rausch-Verhältnis.

Darüber hinaus besitzen mit dem G-Platin-Verfahren hergestellte Goldoberflächen (Au-Haizahnstrukturen) ein großes Potenzial für mikrobiologische Anwendungen/Forschung. Sie sind geeignet zur Zellkultivierung und auf dieser Basis auch für Kryokonservierung von Lebendzellen sowie für Wechselwirkungen, Signalabgreifung und Zellstimulation anwendbar.