Ausstattung

Creamet 500 S3, Sputter System

Funktionen

  • Gleichstrompuls-Magnetfeldröhren-Sputtern
  • 3 Ziele: Au, Pt und Ti
  • Substratformate: 150 mm x 150 mm quadratisch oder 200mm Waferformat
  • Substratoberflächenbehandlung über Glimmentladung