Elektro-optische Leiterplatte (EOCB)

3 Themenfelder motivieren den Bedarf

1. Die moderne Telekommunikationstechnik erfordert erhebliche technologische Fortschritte im Bereich der photonischen Aufbautechnik, um dem enormen Wachstum an Daten gerecht zu werden. Diese Fortschritte müssen insbesondere in Datenzentren erzielt werden, die als Knotenpunkte die größten Datenströme verteilen. Jedoch auch in beispielsweise autonom fahrenden Fahrzeugen müssen große Datenmengen verarbeitet und verteilt werden.
2. In vielen Forschungsbereichen wächst der Einsatz von optischer Sensorik. Dafür werden meist Freistrahlaufbauten oder Glasfasern eingesetzt. Diese können jedoch unter Zuverlässigkeitsproblemen, insbesondere im Hinblick auf mechanische Stabilität, leiden und weisen oft eine geringe Integrationsdichte auf.
   
3. Die Quantentechnologie stellt in vielen Anwendungen hohe Anforderungen an die Dimensionsstablität der eingesetzten Materialen über einen breiten Temperaturbereich, an ein hermetisches Packaging und eine hohe Transparenz über einen breiten Wellenlängenbereich.

Lösungsansatz

Die Kombination aus elektrischen und optischen Lagen in einer Leiterplatte oder einem Chip bietet Lösungen für die genannten Probleme an. Das Fraunhofer IZM hat bereits 1999 das Konzept einer solchen elektro-optische Leiterplatte vorgestellt und forscht bis heute daran. Seit 2003 wird die optische Lage aus kommerziell verfügbaren großformatigen Dünngläsern gefertigt.

Mit elektrisch-optischen Leiterplatten kann das große Potential der optischen Signalübertragung auch auf Leiterplatten- und Chip-Ebene ausgeschöpft werden. In der Telekommunikationstechnik können in die optische Lage integrierten Lichtwellenleiter die Signale von Glasfasern aufnehmen und bis zu auf der Leiterplatte befindlichen Bauteilen leiten. Solche elektrischen und optischen Umverdrahtungslagen werden in aktuell viel beachteten Konzepten wie dem co-packaging benötigt. In der optischen Sensorik können solche  Lichtwellenleiter, die Licht gezielt in Wechselwirkungen mit Analyten bringen, genau wie die für viele Anwendungen hervorragenden Eigenschaften von Glas im Hinblick auf Biokompatibilität und chemische Resistenz, vielfältig eingesetzt werden. Dabei wird durch die Integration in ein Dünnglas die mechanische Stabilität im Vergleich zu Fasern erhöht und die Vermeidung aufwändiger Strahlformungs- und führungsaufbauten erhöht die Integrationsdichte. In Anwendungen der Quantentechnologie bietet die Kombination aus elektrischer und optischer Funktionalisierung von Glas vielfältige Möglichkeiten um optische Aufbauten von der optischen Bank auf die Systemebene zu bringen.

In den vergangenen mehr als 20 Jahren wurden im Fraunhofer IZM in enger Zusammenarbeit mit Forschungs- und Industriepartnern ein Prozess entwickelt, der unter Verwendung von kommerziellem Equipment die Fertigung elektrisch-optischer Leiterplatten mit den folgenden Spezifikationen ermöglicht:

• Boardgröße: bis zu 457 x 305 mm²
• Boarddicke: 300 – 700µm
• optische Lage
  • Gradientenindexwellenleiter
  • mono- und mehrmodig
  • Ausbreitungsverluste <0,1 dB/cm (@1550nm)
  • transparent für 400 – 1600 nm
• elektrische Lage
  • strukturierte Metalllagen: Al, Cr, Cu, Ti, WTi
  • line-space: bis zu 3µm
  • galvanischer Aufbau: Ag, Au, Cu, Ni