Neuartige Waferbearbeitung durch Laser-induziertes qualitativ hochwertiges Trennen in Flüssigkeiten

Projekt NewWAVE

Überblick

Die heterogene 2.5D- und 3D-Integration ist ein Schlüssel zur Leistungssteigerung moderner Mikroelektronik auf engstem Raum. Komplexe Aufbauten aus dünnen Chips, Chiplets und Interposern ermöglichen die Kombination unterschiedlicher Halbleitermaterialien in einem hochintegrierten Package. Im Investvorhaben NewWAVE wird in ein innovatives, flüssigkeitsgestütztes Lasertrennverfahren investiert, das neue Möglichkeiten für die Bearbeitung auf 300 mm Wafer-Level eröffnet. Das neue System zielt auf die Vereinzelung verschiedenster heterogener Substrate aus Si, low-k Dielektrika, Glas, SiC etc. mit bis zu 1000 μm Dicke mit qualitativ hochwertigen, sehr schmalen (bis zu < 20 μm Breite) partikel- und defektarmen Sägelinien ab.

Das Projekt schafft die Grundlage für neuartige hochdichte Integrationstechnologien im Advanced Packaging für Zukunftsanwendungen wie High-Performance-Computing, KI und Quantencomputing.

  • Beschaffung und Integration eines neuartigen flüssigkeitsgestützten Lasertrennsystems als technologische Grundlage für zukünftige Wafervereinzelungsprozesse
  • Ermöglichung eines universellen Ein-Schritt-Trennprozesses für komplexe und heterogene Wafermaterialien
  • Erweiterung der technologischen Infrastruktur für anspruchsvolle Materialien wie Glas, low‑k Dielektrika und Verbindungshalbleiter
  • Verbesserung von Prozessstabilität, Kantenqualität und Bauteilzuverlässigkeit als Basis für nachgelagerte Packaging Technologien
  • Schaffung einer Plattform für nachfolgende Prozessentwicklung und industrielle Anwendungen (z. B. im Projekt WAVE4Tech)

Allgemeine Projektinformationen

  • Projektlaufzeit: 09.10.2025- 31.12.2027
  • Förderprogramm: SAB / EFRE 
  • Förderkennzeichen: 100757530

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